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              公主肚兜下的浑圆被揉捏NP
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              扩散炉

              立式扩散炉

              立式扩散炉
              产品详情:

              本设备主要应用于集成电路、分立器件、电力电子硅片扩散、烧结、以及热处理退火等工艺操作。 
              立式、环壁加热,钟罩升降式,丝杠自动上下升降送料。
              功能特点:  
              ★全英文windows操作界面,可编辑参数,操作方便。    

              ★可保存多条工艺曲线,每条曲线可设置多步。    

              ★工艺曲线的自动运行控制功能。    

              ★自动运行中可暂停/继续运行功能。    

              ★工艺中可强制跳到下一个工艺步运行功能。    

              ★智能升降温斜率制功能。    

              ★PID参数自整定功能。

              ★系统故障的检测与报警功能。

              ★停电后断点继续运行功能。

              ★工艺气体的程序控制功能(电磁阀/质量流量控制器)。

              ★可根据用户的特殊要求增减或开发相应的功能。   
               三.设备参数类型:

              方式:

              立式

              可配工艺管数量:

              1管系统

              净化台洁净度: 

              100级(10000级厂房) 

              气体流量控制:

              均用MFC控制 

              送取片方式: 

              上下自动升降,采用Sic浆推拉舟 

              使用类型: 

              4-12寸炉管 

              工作温度: 

              600~1290℃ 

              炉管有效口径:

              ¢180-500mm

              总功率: 

              18-55KVA/管   保温功率:8-25KVA/管 

              三相五线制: 

              380V±10%,50Hz±10%,次级线不小于35平方高温线 

              报警:

              具有超温报警,断偶报警,气体互锁,气体缓启动等功能 

              恒温区长度及段数: 

              400-800mm(3-5段控温) 

              控温精度: 

              ±0.5℃(≧1000℃) 

              单点温度稳定性: 

              ±1℃/12h

              控温方式: :

              工控机 + PLC控制 + 触摸屏 

              热偶类型:

              热电偶采用S/R型,每管Spike 4-10支热偶 

              最大可控升温范围: 

              (500~1300℃)0--15℃/min

              最大可控降温范围: 

              (1300~500℃)0--10℃/min

              工艺气体: 

              N2/H2/Ar/O2(可根据工艺要求选配) 

              设备总外形尺寸: 

              根据设备配置不同,尺寸有所不同 

               


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